铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了应用。
湖南铼因采用本企业生产的高纯金属铼粉可为用户z业生产加工各种规格溅射靶材，纯度高、密度高、致密均匀、晶粒细，具有良导热性，从而靶材的高率和高利用率。
规格：接受各种产品。