钨铼配比:WRe3%, WRe5% ,WRe10% ,WRe25%, WRe26% 尺寸范围:厚(0.2-20)×宽(≯500)×长(≯1000) 我司采用固液法混料铼的均匀性,同时通过多次锻打和退火密度和改善组织,阳极靶的使用性能和寿命。 工艺流程:配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装 用途 钨具有高熔点,且被高速电子束照射时可以产生X射线,因此常被用作各种X射线管的X射线发生源,而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等点,同时支持高功率电子束,常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还应用于磁控溅射中。
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